鋼研納克光譜儀的產(chǎn)品特點(diǎn)及組成結構

　　鋼研納克光譜儀采用高分辨率線(xiàn)陣CMOS作為檢測器，CMOS檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長(cháng)期穩定性更高;每個(gè)像素自帶放大器，可對特殊元素進(jìn)行強度調整，增加儀器的準確度，降低分析限，實(shí)現全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統，儀器性能更穩定，服務(wù)期限更長(cháng)久。海量的譜線(xiàn)使分析不再受限，曲線(xiàn)分段跳轉同一元素不同譜線(xiàn)間實(shí)現無(wú)縫銜接，拓展分析范圍三元素干擾校正使元素分析更加準確，可以在用戶(hù)現場(chǎng)任意增加材料基體和分析元素而無(wú)需增加硬件，維護保養方便。能量、頻率連續可調全數字固態(tài)光源，適應各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸，速度快，通用性更強。
 

　　鋼研納克光譜儀的產(chǎn)品特點(diǎn)：
 

　　1.分析速度快 一分鐘---分析15個(gè)元素以上
 

　　2.精密度高 相對標準偏差rsd≤1.5%
 

　　3.穩定性好 相對標準偏差rsd≤2.0%
 

　　4.檢出限低 μg∕l
 

　　5.分析元素多 可對70多種元素進(jìn)行定量分析
 

　　6.操作便捷 全新windows運行環(huán)境功能齊全
 

　　7.全自動(dòng)點(diǎn)火 氣路智能控制，納克光譜儀工作原理，實(shí)現軟件點(diǎn)火，更方便
 

　　8.安全 有冷卻水保護、滅弧保護更安全
 

　　采用多重屏蔽和良好的接地，使儀器輻射小于2v/m (jjg768-2005規定小于10v/m)。地操作者的安全。
 

　　鋼研納克光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺和一個(gè)檢測系統組成。包括以下幾個(gè)主要部分：
 

　　1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統的物點(diǎn)。
 

　　2. 準直元件: 使狹縫發(fā)出的光線(xiàn)變?yōu)槠叫泄?。該準直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，手持式納克光譜儀工作原理，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
 

　　3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號在空間上按波長(cháng)分散成為多條光束。
 

　　4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點(diǎn)對應于一特定波長(cháng)。
 

　　5. 探測器陣列：放置于焦平面，用于測量各波長(cháng)像點(diǎn)的光強度。該探測器陣列可以是ccd陣列或其它種類(lèi)的光探測器陣列。